发明名称 INTERCONNECT STRUCTURE AND METHOD OF FABRICATING SAME
摘要 구조물은 반도체 기판 위에 형성된 패시베이션 층, 패시베이션 층에 의해 에워싸인 접속 패드, 패시베이션 층 위에 형성되며 접속 패드에 접속된 재분배 층, 재분배 층 위에 형성되며 재분배 층에 접속된 범프 및 재분배 층 위에 형성된 몰딩 컴파운드 층을 포함한다. 몰딩 컴파운드 층은 평평한 부분과 돌출 부분을 포함하며, 범프의 하부 부분은 몰딩 컴파운드 층의 평평한 부분에 매립되고, 범프의 중간 부분은 몰딩 컴파운드 층의 돌출 부분에 의해 둘러싸인다.
申请公布号 KR101570272(B1) 申请公布日期 2015.11.18
申请号 KR20130135445 申请日期 2013.11.08
申请人 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 发明人 루 웬-슝;쿠오 슈안-팅;첸 쳉-팅;앙 아이-티;쳉 밍-다;리우 청-시
分类号 H01L21/60;H01L23/28;H01L23/485 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人
主权项
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