发明名称 一种基于半导体制冷片的面膜仪装置
摘要 本实用新型涉及一种基于半导体制冷片的面膜仪装置,包括壳体、半导体制冷片和按摩头,其中,壳体分为第一壳体、第二壳体和围边,第一壳体和第二壳体通过围边连接在一起,且三者之间构成空腔,第二壳体包括第一面板和由柔性材料制成的第二面板,第二面板贴合着第一面板,且第一面板为构成空腔的一面;半导体制冷片位于空腔中,并设置在第一面板上;按摩头设置在第一面板上,且位于第一面板和第二面板之间。本实用新型设有半导体制冷片,在使用面膜前,能够对面膜进行加热或者制冷,从而解决不同季节面膜过热或者过热的问题,并辅助以按摩头进行按摩,能够更好的保持面部细胞组织的弹性和活力。
申请公布号 CN204766105U 申请公布日期 2015.11.18
申请号 CN201520521527.9 申请日期 2015.07.17
申请人 武汉雨点科技有限公司 发明人 何宽
分类号 A61F7/00(2006.01)I;A61H23/02(2006.01)I;A61B5/00(2006.01)I;A61M37/00(2006.01)I;A61K8/00(2006.01)I 主分类号 A61F7/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种基于半导体制冷片的面膜仪装置,包括壳体、半导体制冷片和按摩头,其特征在于,所述的壳体分为第一壳体、第二壳体和围边,所述的第一壳体和第二壳体通过围边连接在一起,且所述的第一壳体、第二壳体和围边之间构成空腔,所述的第二壳体包括第一面板和由柔性材料制成的第二面板,所述的第二面板贴合着第一面板,且所述的第一面板为构成空腔的一面;所述的半导体制冷片位于所述的空腔中,所述的半导体制冷片设置在所述的第一面板上;所述的按摩头设置在第一面板上,所述的按摩头位于第一面板和第二面板之间。
地址 430074 湖北省武汉市东湖开发区光谷创业街6幢2楼