一种高性能电解铜箔的制备方法

摘要

本发明公开了一种高性能电解铜箔的制备方法，其特征在于包括如下步骤和工艺条件：第二步，阴极辊筒开始转动，阴极辊筒的转速为2～10米/分，电流密度为3500～8000A/m²，电解液温度为50～70℃，在电场和磁场共同作用下在阴极辊筒的表面结晶生成连续的电解铜箔，再将生成的电解铜箔从阴极辊筒上剥离即可。本发明制备的电解铜箔表面粗糙度低，提高了铜箔的电性能；结晶组织的改善提高了铜箔的耐弯折性能；本发明节省了生产压延铜箔、低轮廓电解铜箔和超薄电解铜箔所需的巨额设备投资，简化了生产工艺，降低了生产成本。

主权项

一种高性能电解铜箔的制备方法，其特征在于包括如下步骤和工艺条件：     第一步，电解液位于阴极辊筒和阳极板之间，在生箔机的阴极辊筒和阳极板上设置磁极，在阴极辊筒和阳极板之间形成附加磁场，所述附加磁场作用于铜箔开始结晶到剥离的整个沉积过程，所述附加磁场强度从0T到1.4T可调，所述附加磁场方向与沉积电场方向相对取向角度从0°到80°可调；    第二步，阴极辊筒开始转动，阴极辊筒的转速为2～10米/分，电流密度为3500～8000A/m²，电解液温度为50～70℃，在电场和磁场共同作用下在阴极辊筒的表面结晶生成连续的电解铜箔，再将生成的电解铜箔从阴极辊筒上剥离即可。