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发明名称 PLASMA DEVICE
摘要 <p>본 발명의 플라즈마 장치는 기판이 수용되는 챔버 및 상기 챔버의 일측에 형성되며 상기 챔버로 유입된 상기 기판의 반응 가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 플라즈마 소오스를 포함하고, 상기 플라즈마 소오스는 상기 기판에 평행 이동함으로써 기판을 고르게 플라즈마 처리할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101568653(B1) 申请公布日期 2015.11.12
申请号 KR20130136639 申请日期 2013.11.12
申请人 发明人
分类号 H05H1/34;H05H1/46 主分类号 H05H1/34
代理机构 代理人
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