可变半径的双磁控管

摘要

双磁控管，特别有用于RF等离子体溅射，包括：径向静止开环磁控管(82)，包括相对磁极(90、92)且绕轴(14)旋转以扫描溅射目标(20)的外部区域；和径向可移动式开环磁控管(84)，包括相对磁极(96、98)且与该静止磁控管一起旋转。在处理期间(图2)，该可移动式磁控管以开口端邻接于该静止磁控管的开口端径向地放置于外部区域中，以形成单一开环磁控管。在清理期间(图3)，该可移动式磁控管的部分径向地向内移动以扫描及清理目标未被该静止磁控管扫描的内部区域。该可移动式磁控管可装设于臂(114)上，该臂于旋转碟状平板(100)的周边处绕轴(118)转动，该静止磁控管装设于该碟状平板，使得该臂离心地根据旋转速率或方向在径向位置间移动。

主权项

一种使用于等离子体溅射室的双磁控管，包括：旋转构件，所述旋转构件可绕中央轴旋转；第一磁控管，所述第一磁控管装设于所述旋转构件上，直线地沿着第一轨道延伸，包括第一磁极性的第一极和相反的第二磁极性的第二极，所述第一极设置于所述第一轨道的第一侧上，所述第二极设置于所述第一轨道的相反的第二侧上，较所述第一侧更靠近所述中央轴，且在所述第一轨道的末端具有开口末端；枢轴臂，所述枢轴臂可绕着枢轴轴线转动于所述旋转构件的周边上，介于远离所述中央轴的第一位置和较所述第一位置更靠近所述中央轴的第二位置之间；和第二磁控管，所述第二磁控管装设于所述枢轴臂上，直线地沿着第二轨道延伸，包括所述第一磁极性的第二极和所述第二磁极性的第三极，所述第二极设置于所述第二轨道的第二侧上，所述第三极设置于所述第二轨道的相反的第四侧上，较所述第三侧更靠近所述中央轴，且在所述第二轨道的末端具有开口末端；其中在所述枢轴臂位于所述第一位置时，所述第二轨道与所述第一轨道对齐，在所述枢轴臂位于所述第二位置时，所述第二轨道延伸较靠近于所述中央轴。