发明名称 显示装置的阵列基板的返工方法和通过其形成的阵列基板
摘要 显示装置的阵列基板的返工方法和通过其形成的阵列基板。本发明提供了一种返工阵列基板的方法,所述阵列基板包括顺序地形成在其中的栅金属层、栅绝缘层(G1)、半导体层、源/漏金属层、下钝化层、公共电极层、上钝化层以及像素电极层。通过使用在返工所述像素电极层时保护跳接钝化孔区域的返工掩模,所述方法能够甚至在所述像素电极返工工艺之后维持在所述跳接钝化孔区域中的所述公共电极层与所述返工像素电极图案之间的电连接,以从而减少由于所述返工工艺而导致的故障的发生和生产量的减少。
申请公布号 CN105047606A 申请公布日期 2015.11.11
申请号 CN201410437838.7 申请日期 2014.08.29
申请人 乐金显示有限公司 发明人 赵哲熙;辛基泽;林东根;姜芝源
分类号 H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I 主分类号 H01L21/77(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 吕俊刚;刘久亮
主权项 一种方法,该方法包括以下步骤:形成显示装置,该显示装置包括:在所述显示装置中的公共电压金属线,该公共电压金属线在所述显示装置的下钝化层和上钝化层两者中的第一孔区域之下;公共电极层,该公共电极层在所述显示装置中被形成在所述下钝化层上方并且在所述上钝化层中的第二孔区域之下;以及跳接像素电极图案,该跳接像素电极图案通过所述第二孔区域连接到所述公共电极层并且通过所述第一孔区域连接到所述公共电压金属线;去除所述跳接像素电极图案的一部分,保留在所述上钝化层中的所述第二孔区域中的残余像素电极图案;以及形成将所述公共电压金属线连接到所述残余像素电极图案的返工像素电极层。
地址 韩国首尔