基材表面图案化方法及其半导体发光元件

主权项

一种基材表面图案化方法，包括以下步骤：提供一基材；在该基材表面形成复数个奈米金属氧化物颗粒作为蚀刻遮罩部，针对未被该些奈米金属氧化物颗粒所遮蔽之该基材进行蚀刻，以于该基材的表面上形成复数个奈米微结构；继续利用该些奈米微结构作为遮蔽物于该基材表面进行一磊晶步骤，于该磊晶步骤开始初期，磊晶层不会成长在遮蔽层上，而仅成长在未设置有遮蔽层的基材表面上；以及继续磊晶步骤于该基材表面形成第一型半导体层、主动层、第二型半导体层等半导体层，以构成一发光半导体元件。