用于同氮化物形成欧姆接触的金属叠层及其制作方法

摘要

本发明提供了一种用于同氮化物形成欧姆接触的金属叠层及其制作方法。所述金属叠层包括直接同氮化物接触的Ti金属层，贴合Ti金属层的Hf金属层，以及贴合Hf金属层的Cu金属层。本发明的优点在于，Ti和Hf是热稳定性良好的难熔金属。其在高温时与包括AlGaN和GaN在内的氮化物发生固相反应，从而萃取氮化物中的氮元素，在氮化物10表面形成了氮的空位，相当于为氮化物引入了重掺杂。而且TiN和HfN是导体，且能起阻挡层的作用。铜可获得理想的金属表面接触，且散热及导电特性、成本等方面具备较强的优势。因此上述金属叠层在欧姆接触特性和合金表面形貌特征有明显的改善，可显著降低器件制造成本，提高器件的可靠性。

主权项

一种用于同氮化物形成欧姆接触的金属叠层，其特征在于，包括直接同氮化物接触的Ti金属层，贴合Ti金属层的Hf金属层，以及贴合Hf金属层的Cu金属层。