发明名称 |
一种等离子氢处理制备黑色Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂层的方法 |
摘要 |
本发明涉及Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂层制造技术领域,具体涉及一种等离子氢处理制备黑色Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂层的方法。所述方法,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉末;步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层;步骤(4),将步骤(4)中制备出的Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层进行等离子体氢处理,即可得到黑色的Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层。本发明利用等离子体氢还原法制备的黑色Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层,具有耐刻蚀、耐脏的性能,且成本较低。 |
申请公布号 |
CN103132006B |
申请公布日期 |
2015.11.11 |
申请号 |
CN201110396196.7 |
申请日期 |
2011.12.02 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
邵花;王文东;刘邦武;夏洋;李勇滔 |
分类号 |
C23C4/12(2006.01)I;C23C4/10(2006.01)I |
主分类号 |
C23C4/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京华沛德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘丽君 |
主权项 |
一种等离子氢处理制备黑色Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉末;步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层;步骤(4),将步骤(3)中制备出的Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层放置于等离子体氢处理设备,进行等离子体氢处理,即可得到黑色的Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层;其中,所述步骤(2)中对待喷涂的基材表面进行预处理,具体包括如下步骤:对待喷涂的基材表面进行喷砂处理,并用丙酮清洗;所述喷砂处理采用的喷砂材料为白刚玉,喷砂粒度为50~100μm;所述步骤(3)中等离子体喷涂设备使用的离子气体为Ar和He,或Ar和H<sub>2</sub>;当所述离子气体为Ar和He时,Ar气体的流量为40~90L/min,He气体的流量为2~10L/min;当所述离子气体为Ar和H<sub>2</sub>时,Ar气体的流量为40~90L/min,H<sub>2</sub>气体的流量为5~20L/min;所述步骤(3)中等离子体喷涂设备在喷涂过程中,采用空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却基体,所述空气喷吹方法中冷却气体的流量为100~2000L/min,所述循环水冷方法中冷却水的流量为10~500L/min;所述步骤(4)中等离子体氢处理设备腔室的工作气压为0.1Pa~100Pa,工作功率为50W~500W,所述设备腔室内基体温度为50℃~200℃,等离子体氢还原时间为30min~2h,氢气流量为50~500mL/min。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |