| 发明名称 | 一种硅片清洗方法、及清洗装置 | ||
| 摘要 | 本申请公开了一种硅片清洗方法、及清洗装置，该清洗方法包括步骤：(1)、把柠檬酸和水按3:100的比例倒入可以恒温的侵泡槽内，加热至65±5℃；(2)、搅拌直至柠檬酸完全溶解；(3)、恒温条件下侵泡时间在2～3小时。本发明的优点在于：(1)、可以提高70％以上流失的柠檬酸，可以多次侵泡；(2)、缓解企业废水处理压力；(3)、降低生产用水，因按一定比例调和的水和柠檬酸可以重复使用，从而节约了水用量。 | ||
| 申请公布号 | CN105047538A | 申请公布日期 | 2015.11.11 |
| 申请号 | CN201510465070.9 | 申请日期 | 2015.07.31 |
| 申请人 | 江苏奥能光电科技有限公司 | 发明人 | 李小勇 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人 | 陆华君 |
| 主权项 | 一种硅片清洗方法，其特征在于，包括步骤：(1)、把柠檬酸和水按3:100的比例倒入可以恒温的侵泡槽内，加热至65±5℃；(2)、搅拌直至柠檬酸完全溶解；(3)、恒温条件下侵泡时间在2～3小时。 | ||
| 地址 | 215638 江苏省苏州市张家港市经济开发区汤桥中路8号（江苏奥能光电科技有限公司） | ||