Verfahren zur Herstellung von Sperrschicht-Photozellen, die aus einem Halbleiter, wie Kupferoxydul, mit beiderseits aufgebrachten flaechenhaften Elektroden bestehen
摘要
申请公布号
DE580087(C)
申请公布日期
1933.07.05
申请号
DED580087D
申请日期
1930.06.04
申请人
SIEMENS & HALSKE AKT.-GES.
发明人
SCHOTTKY DR. WALTER;DUHME DR. EMIL;STOERMER DR. RUDOLF
