发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>본 발명의 과제는 도포 처리 시에 피처리 기판 상으로부터 증발하는 가스의 회수를 순조롭게 행할 수 있는 동시에, 도포 처리 공간의 공간 절약화, 풋프린트의 축소, 공기 청정의 설비 및 소비 에너지의 절감을 실현하는 것이다. 레지스트 도포 유닛(COAT)(44)의 도포 처리부(84)는 부상 스테이지(96) 상에서 공중에 떠 있는 기판(G)을 스테이지 길이 방향으로 반송하면서, 장척형의 레지스트 노즐(100)로부터 레지스트액을 띠 형상으로 토출하여, 기판(G) 상에 레지스트액의 도포막을 형성한다. 레지스트 노즐(100)은 도포 처리실(80)의 반출구(80b)의 근방에 배치된다. 레지스트 도포 유닛(COAT)(44)의 도포 처리실(80)과 기류 건조 유닛(KD)(46)의 건조 처리실(136)은 양 실의 경계에서 격벽(138)을 공유하고 있고, 도포 처리실(80)의 반출구(80b)가 건조 처리실(136)의 반입구(136a)로 되어 있다.</p>
申请公布号 KR101568050(B1) 申请公布日期 2015.11.10
申请号 KR20100096204 申请日期 2010.10.04
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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