发明名称 .FABRICATION METHOD OF REPLICATION MOLD FINE STRUCTURES USING THE SAME AND ITS APPLICATIONS THEREOF.
摘要 <p>본원 발명은 제 1 기판 상에 초기 미세 구조 패턴을 형성하여는 단계, 상기 제 1 기판 상의 초기 미세 구조 패턴을 변형시켜, 미세 구조 패턴을 형성하는 마스터 몰드 제조 단계, 상기 마스터 몰드 상에 고분자 용액을 도포하고, 경화시켜 고분자 몰드를 제조하는 단계 및 상기 경화된 고분자 몰드를 상기 마스터 몰드에서 분리하는 단계를 포함하여 고분자 몰드를 제조한다. 제조된 상기 고분자 몰드 상에 고분자 용액을 도포하는 단계, 상기 고분자 용액에 자외선을 조사하는 방법으로 상기 고분자 용액을 제 1 차 경화시키는 단계, 상기 고분자 몰드 상에 도포된 고분자 용액 상에 제 2 기판을 위치시키고, 상기 도포된 고분자 용액을 제 2 차 경화시키는 단계 및 상기 경화된 고분자 용액에서 상기 고분자 몰드를 분리하여 미세 구조를 완성하는 단계를 포함하여 미세 구조를 제조한다. 본원 발명은 상기 방법을 이용하여 종래의 방법으로 제조된 미세 구조 보다 유연한 표면의 재질에의 부착성이 향상된 미세 구조를 제조하는 것이 가능하다. 이는 초기 미세 구조 패턴을 산화시키거나, 에칭하여 변형하는 단계를 통해 미세 구조를 변형시켜 미세 구조를 제조함으로써 가능하다. 또한, 두 번의 단계를 거쳐 상기 미세 구조를 경화시키는 단계를 적용함으로써 직물 등의 흡수성이 있는 표면에 적용이 용이하다. 마지막으로, 상기 미세 구조 표면에 친수성을 부여하는 것이 가능하다.</p>
申请公布号 KR101565835(B1) 申请公布日期 2015.11.06
申请号 KR20130134857 申请日期 2013.11.07
申请人 发明人
分类号 B29C41/02;B29C59/02 主分类号 B29C41/02
代理机构 代理人
主权项
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