| 摘要 |
<p>半導体処理チャンバに関連するシステム及び方法が記載されている。例示のチャンバは、チャンバの第１のアクセスと流動的に結合された第１の遠隔プラズマシステムと、チャンバの第２のアクセスと流動的に結合された第２の遠隔プラズマシステムとを含むことができる。本システムはさらに、第１の前駆体と第２の前駆体がチャンバの処理領域の中へ送られるまで第１の前駆体と第２の前駆体を互いに流動的に分離した状態に維持しながら、第１の前駆体と第２の前駆体の両方をチャンバの処理領域の中へ送るように構成することができるチャンバのガス分配アセンブリも含むことができる。【選択図】図４</p> |
