HARDMASK COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE HARDMASK COMPOSITION

摘要

하기 화학식 1로 표현되는 중합체, 하기 화학식 2로 표현되는 모노머, 그리고용매를 포함하고, 상기 모노머는 상기 중합체보다 높은 함량으로 포함되어 있는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다. [화학식 1][화학식 2]AR1, AR2, R　내지 R, x, y 및 n은 명세서에서 정의한 바와 같다.