用于自我定心的处理屏蔽件的物理气相沉积靶

摘要

在一些实施方式中，一种用于具有处理屏蔽件的基板处理腔室中使用的靶组件可包括：背板，具有第一侧和相对的第二侧，其中该第二侧包含具有第一直径的第一表面，由第一边缘约束该第一表面；靶材料，具有粘合至背板的第一表面的第一侧；其中第一边缘为背板与靶材料之间的界面；和多个槽缝，沿背板的外部外围安置以在使用期间相对于处理屏蔽件对准靶组件，其中在背板的第一侧中形成多个槽缝并且所述多个槽缝仅部分延伸至背板中。

主权项

一种供具有处理屏蔽件的基板处理腔室中使用的靶组件，所述靶组件包含：背板，具有第一侧和相对的第二侧，其中所述第二侧包含具有第一直径的第一表面，由一第一边缘约束所述第一表面；靶材料，具有粘合至所述背板的所述第一表面的第一侧；其中所述第一边缘为所述背板与所述靶材料之间的界面；和多个槽缝，沿所述背板的外部外围安置以在使用期间相对于所述处理屏蔽件对准所述靶组件，其中在所述背板的所述第一侧中形成所述多个槽缝并且所述多个槽缝仅部分延伸至所述背板中。