一种薄片的制备设备

摘要

本实用新型提供一种薄片的制备设备，其包括：真空光学镀膜系统，其包括具有抽真空的内腔和设置于所述内腔底部的粒子发射源；设置于所述内腔内所述粒子发射源的正上方的至少一个大面积接收基材，所述每一大面积接收基材的内表面均朝向所述粒子发射源。采用大面积接收基材作为镀膜的基底，使其公转，或者同时还自转，既可以大大提高镀膜的效率，又可以保证膜的均匀性；亲水膜的应用，可轻松将薄膜从基底上剥离，同样提高了薄片的制备效率。

主权项

一种薄片的制备设备，其特征在于：其包括：真空光学镀膜系统，其包括具有抽真空的内腔和设置于所述内腔底部的粒子发射源；设置于所述内腔内所述粒子发射源的正上方的至少一个大面积接收基材，每一所述大面积接收基材的内表面均朝向所述粒子发射源。