| 发明名称 | 蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示装置的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种蚀刻剂和一种使用该蚀刻剂制造显示装置的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105018930A | 申请公布日期 | 2015.11.04 |
| 申请号 | CN201510187631.3 | 申请日期 | 2015.04.20 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 鞠仁说;南基龙;朴英哲;刘仁浩;尹暎晋;李昔准 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 徐川;姚开丽 |
| 主权项 | 一种蚀刻剂，包含：0.5wt％～20wt％的过硫酸盐；0.01wt％～2wt％的氟化合物；1wt％～10wt％的无机酸；0.5wt％～5wt％的含氮原子的杂环化合物；0.1wt％～5wt％的氯化合物；0.05wt％～3wt％的铜盐；0.1wt％～10wt％的有机酸或有机酸盐；0.1wt％～5wt％的供电子化合物；以及余量的溶剂。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||