发明名称 |
METHOD OF TREATING A SURFACE OF AT LEAST ONE PART BY MEANS OF INDIVIDUAL SOURCES OF AN ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA |
摘要 |
본 발명의 방법은 개별의 발생원(2)의 하나 이상의 고정된 선형 열에 대해서 부재 또는 부재들(1)을 한 번 이상 회전 운동시키는 단계를 포함하며, 개별의 발생원(2)의 선형 열 또는 열들은 부재 또는 부재들의 회전축 또는 회전축들에 평행하게 배치하는 것을 특징으로 한다. |
申请公布号 |
KR20150123321(A) |
申请公布日期 |
2015.11.03 |
申请号 |
KR20157027183 |
申请日期 |
2008.10.09 |
申请人 |
H.E.F. |
发明人 |
SCHMIDT BEAT;HEAU CHRISTOPHE;MAURIN PERRIER PHILIPPE |
分类号 |
C23C14/35;C23C14/50;C23C16/27;H01J37/32;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C14/35 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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