发明名称 RESIST COMPOSITION METHOD OF FORMING RESIST PATTERN NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
摘要 <p>산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 변화되는 기재 성분 (A) 와, 식 (b1-1) 로 나타내는 화합물, 식 (b1-1') 로 나타내는 화합물 및/또는 식 (b1-1") 로 나타내는 화합물을 함유하는 산발생제 성분 (B) 를 함유하는 레지스트 조성물 ; [화학식 1][식 중, R∼ R는 아릴기 또는 알킬기를 나타내고, 그 적어도 1 개는 식 (b1-1-0) 으로 나타내는 기로 치환된 치환 아릴기이고, 어느 2 개가 서로 결합하여 식 중의 황 원자와 함께 고리를 형성해도 된다. X 는 탄소수 3 ∼ 30 의 탄화수소기, Q은 카르보닐기를 함유하는 2 가의 연결기, p 는 1 ∼ 3 의 정수이다. X은 탄소수 1 ∼ 30 의 탄화수소기, Q은 단결합 또는 2 가의 연결기, Y은 -C(=O)- 또는 -SO-, Y은 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 불소화 알킬기이다. Q는 단결합 또는 알킬렌기이다. W 는 탄소수 2 ∼ 10 의 알킬렌기이다.]</p>
申请公布号 KR101565282(B1) 申请公布日期 2015.11.02
申请号 KR20150062227 申请日期 2015.05.01
申请人 发明人
分类号 C07C309/12;C07C311/46;C07C311/48;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/30 主分类号 C07C309/12
代理机构 代理人
主权项
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