发明名称 |
光感性聚醯亚胺组成物、其主剂、其主剂的制法及其制得的聚醯亚胺防焊薄膜 |
摘要 |
本发明之光感性聚醯亚胺组成物包含一主剂及一含有光起始剂的硬化剂,该主剂之制法藉由长碳链脂肪族二胺单体及主碳链之两末端分别具有一双键及一环氧基团的嫁接单体之使用,令该主剂与该硬化剂混合后可经网版印刷而制得一光感性聚醯亚胺膜于铜箔上;该光感性聚醯亚胺膜可以低曝光能量曝光且可以弱硷性显影剂显影,且于显影后所制得的聚醯亚胺防焊膜系具有低介电常数、低介电损耗、良好的耐燃性、耐焊锡性及铅笔硬度。因此,本发明之光感性聚醯亚胺组成物,系能应用于高密度电路的软性电路板。 |
申请公布号 |
TW201540745 |
申请公布日期 |
2015.11.01 |
申请号 |
TW103114943 |
申请日期 |
2014.04.25 |
申请人 |
台虹科技股份有限公司 TAIFLEX SCIENTIFIC CO., LTD |
发明人 |
林世昌 LIN, SHIH CHANG;张修明 CHANG, HSIU MING;洪子景 HUNG, TZU CHING |
分类号 |
C08G73/10(2006.01);C08L79/08(2006.01);G03F7/004(2006.01) |
主分类号 |
C08G73/10(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒林景郁 |
主权项 |
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地址 |
高雄市前镇区高雄加工出口区环区三路1号 TW |