发明名称 | 处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI506718 | 申请公布日期 | 2015.11.01 |
申请号 | TW101107706 | 申请日期 | 2012.03.07 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 中岛干雄;稻富弘朗;冈村聪 |
分类号 | H01L21/677 | 主分类号 | H01L21/677 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
主权项 | 一种处理装置,用以对于经由搬运口被搬入至处理容器内之被处理基板施行使用高压流体的处理,具备:盖体,用以封塞该搬运口;密封构件,于该搬运口周围之处理容器与该盖体相对面之间设置成环状,而在藉由该盖体封塞该搬运口时,包围该搬运口,或沿着此搬运口之内周面,其纵剖面形成为U字状,且使该U字状所包围之内部空间与该处理容器之内部气体氛围相连通;以及限制机构,限制该盖体因处理容器内之压力而较预先设定位置更往后方后退;其特征为:于对该处理容器供给高压流体,而该盖体后退至预先设定之位置时,使藉由进入该内部空间之处理容器的内部气体氛围而加压之该密封构件,抵紧该搬运口周围之处理容器与该盖体之相对面,而将该处理容器与该盖体之间的间隙气密性地封塞。 | ||
地址 | 日本 |