洗净装置及洗净方法;CLEANING APPARATUS AND CLEANING METHOD

摘要

在旋转之半导体晶圆等基板表面供给洗净液来洗净基板之洗净装置中，藉由使洗净液在基板整个半径上流动而使洗净度提高。本发明之洗净装置具备：复数个主轴51，其系保持基板W，将基板W之中心轴作为旋转轴而使基板W旋转；及单管喷嘴41，其系向基板W上面吐出洗净液L；单管喷嘴41系以洗净液L在基板W之中心O前附着，附着之洗净液L在基板W上面朝向基板W中心流动的方式吐出洗净液L。从单管喷嘴41吐出之洗净液L附着后，在基板W上面之液流通过基板W的中心O。