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经营范围
发明名称
奈米微影用之有机底抗反射涂覆组成物;ORGANIC BOTTOM ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION FOR NANOLITHOGRAPHY
摘要
本发明系提供一种抗反射涂覆组成物。本发明之抗反射涂覆组成物有用于预防拉回(pull-back)现象(即在热固化过程中,抗反射涂覆层会于基板图案之一角裂开(tears)者),并增进图案之沟槽填充效能,此系由于有交联剂连结至组成物中之聚合物,且组成物中低分子量交联剂之含量最小化以调节热固化启动温度。
申请公布号
TW201541114
申请公布日期
2015.11.01
申请号
TW103146502
申请日期
2014.12.29
申请人
罗门哈斯电子材料韩国公司 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD.
发明人
沈载桓 SIM, JAE HWAN;金昭然 KIM, SO-YEON;赵廷奎 JO, JUNG KYU;李惠元 LEE, HYE-WON;姜智薰 KANG, JIHOON;林载峰 LIM, JAE-BONG;尹准汉 YUN, JUN-HAN
分类号
G02B1/11(2015.01);C08L67/03(2006.01);G03F7/11(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
G02B1/11(2015.01)
代理机构
代理人
洪武雄陈昭诚
主权项
地址
南韩 KR
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