发明名称 奈米微影用之有机底抗反射涂覆组成物;ORGANIC BOTTOM ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION FOR NANOLITHOGRAPHY
摘要 本发明系提供一种抗反射涂覆组成物。本发明之抗反射涂覆组成物有用于预防拉回(pull-back)现象(即在热固化过程中,抗反射涂覆层会于基板图案之一角裂开(tears)者),并增进图案之沟槽填充效能,此系由于有交联剂连结至组成物中之聚合物,且组成物中低分子量交联剂之含量最小化以调节热固化启动温度。
申请公布号 TW201541114 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW103146502 申请日期 2014.12.29
申请人 罗门哈斯电子材料韩国公司 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD. 发明人 沈载桓 SIM, JAE HWAN;金昭然 KIM, SO-YEON;赵廷奎 JO, JUNG KYU;李惠元 LEE, HYE-WON;姜智薰 KANG, JIHOON;林载峰 LIM, JAE-BONG;尹准汉 YUN, JUN-HAN
分类号 G02B1/11(2015.01);C08L67/03(2006.01);G03F7/11(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G02B1/11(2015.01)
代理机构 代理人 洪武雄陈昭诚
主权项
地址 南韩 KR