发明名称 EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 스테이지 (WST1) 상에 탑재된 4 개의 헤드 (60~ 60) 중, 서로 다른 1 개의 헤드를 포함하는 3 개의 헤드가 각각 속하는 제 1 헤드군과 제 2 헤드군에 포함되는 헤드가 스케일판상의 대응하는 영역에 대향하는 영역 (A) 내에서, 제 1 헤드군을 사용하여 얻어지는 위치 정보에 기초하여 스테이지 (WST1) 를 구동하는 것과 함께, 제 1 및 제 2 헤드군을 사용하여 얻어지는 위치 정보를 사용하여 제 1 및 제 2 헤드군에 대응하는 제 1 및 제 2 기준 좌표계 (C, C) 간의 변위 (위치, 회전, 스케일링의 변위) 를 구한다. 그 결과를 사용하여 제 2 헤드군을 사용하여 얻어지는 계측 결과를 보정하는 것에 의해, 제 1 및 제 2 긱준 좌표계 (C, C) 간의 변위가 교정되고, 4 개의 헤드 (60~ 60) 의 각각이 대향하는 스케일판 상의 영역의 상호간의 변위에 수반하는 계측 오차가 보정된다.
申请公布号 KR20150122264(A) 申请公布日期 2015.10.30
申请号 KR20157029936 申请日期 2010.08.24
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 SHIBAZAKI YUICHI
分类号 G03F7/20;G01B11/27;G03F9/00;H01L21/68 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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