自行定心处理屏蔽件

摘要

一种处理屏蔽件，该处理屏蔽件可包括伸长环形主体，该伸长环形主体具有外表面和内表面；唇，该唇自该主体的外表面(位于该主体的第一端附近)向外径向延伸，使得该主体的第一部分向该第一端延伸超过该唇；多个开口，所述多个开口位于唇中；和销，该销设置于所述多个开口的每一者中，以在盖置放于该处理屏蔽件的顶部上时，使靶组件对准于该处理屏蔽件的顶部上，其中该销包含：伸长主体，该伸长主体具有：第一表面，该第一表面具有斜的周缘，其中该第一表面具有第一直径；第二表面，该第二表面与第一表面相对，其中该第二表面具有第二直径；和侧壁，该侧壁位于该第一表面与该第二表面之间，其中该侧壁具有凹面部分，该凹面部分具有第三直径。

主权项

一种用于在基板处理腔室中使用的处理屏蔽件，所述基板处理腔室具有腔室盖，所述腔室盖包含耦接至所述腔室盖的靶，所述处理屏蔽件包含：伸长环形主体，所述伸长环形主体具有外表面和内表面，所述内表面界定所述主体的中央开口；唇，所述唇自所述主体的第一端附近的所述主体的所述外表面向外径向延伸，以使得所述主体的第一部分向所述第一端延伸超过所述唇；多个开口，所述多个开口位于所述唇中；和销，所述销设置于所述多个开口的每一者中，以在所述盖置放于所述处理屏蔽件的顶部时，使所述靶对准于所述处理屏蔽件的顶部上，其中所述销包含：伸长主体，所述伸长主体具有：第一表面，所述第一表面具有斜的周缘，其中所述第一表面具有第一直径；第二表面，所述第二表面与所述第一表面相对，其中所述第二表面具有第二直径；和侧壁，所述侧壁位于所述第一表面与所述第二表面之间，其中所述侧壁具有凹面部分，所述凹面部分具有第三直径。