发明名称 193NM LASER AND INSPECTION SYSTEM
摘要 200nm 이하의 광을 발생시키는 개선된 고체 상태 레이저가 기술된다. 이 레이저는 약 1030nm와 약 1065nm 사이의 기본 파장을 사용하여 200nm 이하의 광을 발생시킨다. 레이저의 최종 주파수 변환 스테이지는 대략 1109nm 파장의 광을 대략 234nm 파장의 광과 조합하여 200nm 이하의 파장을 생성한다. 비선형 매체를 적절하게 선택함으로써, 그러한 혼합은 거의 비-임계적인 위상 정합에 의해 달성될 수 있다. 이러한 혼합은 결과적으로 높은 변환 효율, 양호한 안정성, 그리고 높은 신뢰성을 가져온다.
申请公布号 KR20150119040(A) 申请公布日期 2015.10.23
申请号 KR20157024509 申请日期 2014.02.13
申请人 KLA-TENCOR CORPORATION 发明人 CHUANG YUNG HO ALEX;ARMSTRONG J. JOSEPH;DENG YUJUN;LIOU JUSTIN DIANHUAN;DRIBINSKI VLADIMIR;FIELDEN JOHN
分类号 H01S3/00;G01N21/95;G02B17/08;H01S3/23 主分类号 H01S3/00
代理机构 代理人
主权项
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