| 主权项 |
一种沉积系统，包含：一包围一制程空间的反应室；一气体输送装置；及一气体处理装置，包含一外围环状气体喷洒部分，包含一外围循环气体通道；一上方气体喷洒部分，包含一第一气源通道、复数个第一气体通道及复数个第一热交换流体通道，其中该第一热交换流体通道位于该上方气体喷洒部分之一第一板结构内，该第一气源通道位于该第一热交换流体通道之上，该第一气源通道连接该气体输送装置，该第一热交换流体通道在该第一板结构内彼此大致平行排列，每一该第一气体通道系与该第一热交换流体通道交插排列，该第一气体通道连接该第一气源通道至该反应室之该制程空间；一下方气体喷洒部分，包含一第二气源通道、复数个第二气体通道、该第一气体通道及复数个第二热交换流体通道，其中该第二热交换流体通道位于该下方气体喷洒部分之一第二板结构内，该第二气源通道由该第一板结构与该第二板结构封闭形成，该第二气源通道系位于该第一热交换流体通道之下及该第二热交换流体通道之上，该第二气源通道连接该气体输送装置，该第二热交换流体通道在该第二板结构中彼此大致平行排列，每一该第二气体通道围绕每一该第一气体通道且均与二相邻该第二热交换流体通道交错排列并均位于二相邻该第二热交换流体通道之间，该第二气体通道连接该第二气源通道至该制程空间；及一盖板，位于该外围环状气体喷洒部分及该上方气体喷洒部分之上。 |
