发明名称 |
掺杂ZrO2之电容器材料及结构,制造介电材料结构的方法,及制造微电子装置的方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI505303 |
申请公布日期 |
2015.10.21 |
申请号 |
TW099112063 |
申请日期 |
2010.04.16 |
申请人 |
安特格利斯公司 |
发明人 |
罗伊德杰佛里F;汉迪克斯布莱恩C;比洛德欧史帝芬M;史道夫葛列格里T;陈天牛;卡麦容汤玛仕M;苏中因 |
分类号 |
H01G4/10;C23C16/40;C23C16/18;H01L21/34 |
主分类号 |
H01G4/10 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种复合介电材料,包括:(a)一前期过渡金属或前期过渡金属氧化物基底材料;(b)一掺杂、共沉积、合金化或层叠用之第二材料,其中该第二材料是选自由下列材料所构成的群组:多种掺杂材料,该等掺杂材料选自于铌(Nb)、锗(Ge)、钽(Ta)、镧(La)、钇(Y)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钆(Gd)、镝(Dy)、锶(Sr)、钡(Ba)、钙(Ca)、该些金属之氧化物及氧化铝的群组中;多种共沉积材料,该等共沉积材料选自于锗(Ge)、镨(Pr)、钕(Nd)、钆(Gd)、镝(Dy)、钙(Ca)、及该些金属之氧化物的群组中;多种合金化材料,该等合金化材料选自于锗(Ge)、镨(Pr)、钕(Nd)、钆(Gd)、镝(Dy)、钙(Ca)、及该些金属之氧化物的群组中,且当该基底材料包含钒(V)、铬(Cr)、钼(Mo)、鎝(Tc)与铼(Re)之一者或多者时,那麽该等合金化材料额外地选自于铌(Nb)、钽(Ta)、镧(La)、锶(Sr)、钡(Ba)、该些金属之氧化物及氧化铝的群组中;以及多种层叠用材料,该等层叠用材料选自于锗(Ge)、镨(Pr)、钕(Nd)、钆(Gd)、镝(Dy)、钙(Ca)、及该些金属之氧化物的群组中,且当该基底材料包含钒(V)、铬(Cr)、钼(Mo)、鎝(Tc)与铼(Re)之一者或多者时,那麽该等层叠用材料额外地选自于铌(Nb)、钽(Ta)、镧(La)、锶(Sr)、
钡(Ba)、及该些金属之氧化物的群组中。
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地址 |
美国 |