发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI505039 申请公布日期 2015.10.21
申请号 TW100106093 申请日期 2011.02.23
申请人 ASML荷兰公司 发明人 范 兹维 爱尔恩 约翰;德 贾格 皮耶特 威廉 荷曼;昂夫里 乔汉斯;费瑞兹 艾瑞克 克力斯坦
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种微影装置,其包含:一光学圆柱,该光学圆柱经组态以将一光束投影于一基板之一目标部分上;一致动器,该致动器用以相对于该基板移动该光学圆柱或其一部分;及一补偿元件,该补偿元件用以减少藉由该光学圆柱或其部分通过一介质之移动而在该光学圆柱或其部分上导致之一热负荷之一效应,其中该补偿元件包含一冷却器,该冷却器用以冷却该可移动光学圆柱或其部分,其中该光学圆柱包含:一可控制器件,该可控制器件用以选择性地提供一辐射光束;及一投影系统,该投影系统经组态以将该光束投影至该目标部分上,该可控制器件包含一自发射对比元件。
地址 荷兰