| 主权项 |
一种微波处理系统，用于处理基板，该系统包含：一矩形制程腔室，包含具有一可移动基板固持器于其中的制程空间；一第一腔组件，利用一第一介面组件连结至该矩形制程腔室，该第一腔组件具有一第一电磁(EM)能量调整空间于其中，该第一介面组件包含一第一组隔离组件，其中一第一组EM耦合区域系建立在该第一EM能量调整空间之中，且该第一组EM耦合区域各自具有EM能量于其中；一第一组电浆调整杆，各自连结至该第一组隔离组件其中一者，该第一组电浆调整杆各自具有位于该制程空间之中的电浆调整部、及位于该第一EM能量调整空间之中的EM调整部，该等电浆调整部其中之每一者系分别耦合至该第一组EM耦合区域其中一者，其中该等EM调整部系配置以自该第一组EM耦合区域取得EM能量；一第一组电浆调整板及一第一组调整板控制组件，该第一组电浆调整板系位于该第一EM能量调整空间中之该第一组EM耦合区域附近，且该第一组调整板控制组件系经由一第一腔组件壁而连结至该第一组电浆调整板，该第一组电浆调整板其中之每一者系藉由该第一组调整板控制组件其中一者而设置在与该第一组电浆调整杆其中一者之EM调整部距离一第一EM耦合距离处，该第一组调整板控制组件其中之每一者系配置以分别调整该第一组EM耦合区域其中一者的EM能量；一第一腔调整板，藉由一第一腔控制组件而设置在该第一EM能量调整空间内的可变腔调整距离处，该第一腔控制组件系连结至该第一腔调整板并配置以调整该第一EM能量调整空间中的EM能量；一第二腔组件，利用一第二介面组件连结至该矩形制程腔室，该第二腔组件具有一第二EM能量调整空间于其中，该第二介面组件包含一第二组隔离组件，其中一第二组EM耦合区域系
建立在该第二EM能量调整空间之中，且该第二组EM耦合区域各自具有EM能量于其中；一第二组电浆调整杆，各自连结至该第二组隔离组件其中一者，该第二组电浆调整杆各自具有位于该制程空间之中的电浆调整部、及位于该第二EM能量调整空间之中的EM调整部，该等电浆调整部其中之每一者系分别耦合至该第二组EM耦合区域其中一者，其中该等EM调整部系配置以自该第二组EM耦合区域取得EM能量；一第二组电浆调整板及一第二组调整板控制组件，该第二组电浆调整板系位于该第二EM能量调整空间中之该第二组EM耦合区域附近，且该第二组调整板控制组件系经由一第二腔组件壁而连结至该第二组电浆调整板，该第二组电浆调整板其中之每一者系藉由该第二组调整板控制组件其中一者而设置在与该第二组电浆调整杆其中一者之EM调整部距离一第二EM耦合距离处，该第二组调整板控制组件其中之每一者系配置以分别调整该第二组EM耦合区域其中一者的EM能量；一第二腔调整板，藉由一第二腔控制组件而设置在该第二EM能量调整空间内的可变腔调整距离处，该第二腔控制组件系连结至该第二腔调整板并配置以调整该第二EM能量调整空间中的EM能量；及一控制器，连结至该第一腔控制组件、该第二腔控制组件、该第一组调整板控制组件、该第二组调整板控制组件、该第一腔组件、及该第二腔组件，其中该控制器系配置成：独立控制该第一EM耦合距离以调整与该第一组EM耦合区域之每一者相关的各EM能量、独立控制该第二EM耦合距离以调整与该第二组EM耦合区域之每一者相关的各EM能量、及独立控制该第一和第二腔控制组件以调整该第一和第二EM能量调整空间中的EM能量，藉以控制在该制程空间之中的电浆均匀性。
|
