发明名称 |
métodos e estruturas para reduzir exposição de calor de dispositivos semicondutores sensíveis termicamente |
摘要 |
<p>métodos e estruturas para reduzir exposição de calor de dispositivos semicondutores sensíveis termicamente. um dispositivo semicondutor compreende uma matriz de circuito integrado (ic) tendo um lado de topo e um lado de trás. o substrato de circuito inclui um circuito de fonte de calor, um circuito sensível ao calor, um substrato de embalagem juntamente com o lado de topo do substrato de circuito, e uma pluralidade de vias através de silício (tsvs) condutoras termicamente formadas a partir do lado de trás do substrato circuito para perto, mas não através do lado de topo do substrato de circuito.</p> |
申请公布号 |
BR102013013566(A2) |
申请公布日期 |
2015.10.20 |
申请号 |
BR20131013566 |
申请日期 |
2013.05.31 |
申请人 |
FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC |
发明人 |
KEVIN J. HESS;MICHAEL B. MCSHANE;PERRY H. PELLEY;TAB A. STEPHENS |
分类号 |
H01L23/13;H01L23/31;H01L29/66 |
主分类号 |
H01L23/13 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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