发明名称 métodos e estruturas para reduzir exposição de calor de dispositivos semicondutores sensíveis termicamente
摘要 <p>métodos e estruturas para reduzir exposição de calor de dispositivos semicondutores sensíveis termicamente. um dispositivo semicondutor compreende uma matriz de circuito integrado (ic) tendo um lado de topo e um lado de trás. o substrato de circuito inclui um circuito de fonte de calor, um circuito sensível ao calor, um substrato de embalagem juntamente com o lado de topo do substrato de circuito, e uma pluralidade de vias através de silício (tsvs) condutoras termicamente formadas a partir do lado de trás do substrato circuito para perto, mas não através do lado de topo do substrato de circuito.</p>
申请公布号 BR102013013566(A2) 申请公布日期 2015.10.20
申请号 BR20131013566 申请日期 2013.05.31
申请人 FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC 发明人 KEVIN J. HESS;MICHAEL B. MCSHANE;PERRY H. PELLEY;TAB A. STEPHENS
分类号 H01L23/13;H01L23/31;H01L29/66 主分类号 H01L23/13
代理机构 代理人
主权项
地址