| 摘要 |
<p>캐러셀(19)상에 탑재된 워크리스에 대한 행성 캐리어(22)가 진공 챔버내에 제공된다. 이온 함유 구름(CL)에 대한 소스(24)는 구름의 중심축(A)이 캐러셀(19)의 회전축(A)을 가로막도록 제공된다. 구름(CL)은 행성 캐리어(22)의 직경의 최대 반인 상기 중심축(A)으로부터의 거리에서 최대 이온 밀도의 50%까지 저하되는 행성축(A)의 이동경로(T)에서 이온 밀도 프로파일을 갖는다. 행성 캐리어(22) 상의 워크피스가 이온 함유 구름에 의해 에칭될 때 에칭된 물질이 이웃하는 행성 캐리어 상에 실질적으로 재증착되기 보다 진공 챔버의 벽을 향하여 방출된다.</p> |
