| 发明名称 |
包含多胺基酸之化学机械抛光（ＣＭＰ）组成物;A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION COMPRISING A POLY(AMINOACID) |
| 摘要 |
一种化学机械抛光(CMP)组成物，其包含(A)胶状或烟雾状无机粒子或其混合物，(B)多胺基酸及或其盐，及(M)水性介质。 |
| 申请公布号 |
TW201538700 |
申请公布日期 |
2015.10.16 |
| 申请号 |
TW104102942 |
申请日期 |
2015.01.29 |
| 申请人 |
巴斯夫欧洲公司 BASF SE |
发明人 |
劳特 米夏埃尔 LAUTER, MICHAEL;朗格 罗兰 LANGE, ROLAND;诺勒 巴斯提昂 玛登 NOLLER, BASTIAN MARTEN;席伯特 马克斯 SIEBERT, MAX |
| 分类号 |
C09K3/14(2006.01);C09G1/02(2006.01);C09G1/06(2006.01);H01L21/304(2006.01);H01L21/3105(2006.01);B24B37/00(2012.01) |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰林景郁 |
| 主权项 |
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| 地址 |
德国 DE |
