基板处理装置及基板处理方法;SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

摘要

本发明之目的系提供一种无论成为处理对象之基板之种类如何，均可确实地检测出来自喷嘴之处理液之喷出的基板处理装置及基板处理方法。;上表面处理液喷嘴30于保持于旋转夹盘20之基板W上方之处理位置与较处理护罩40更靠外侧之待机位置之间往返移动。于移动至处理位置之上表面处理液喷嘴30喷出处理液之前，由相机70拍摄包含上表面处理液喷嘴30之前端之摄影区域而获取喷出基准图像。其后，依序对复数个监视对象图像与喷出基准图像进行比较，从而对来自上表面处理液喷嘴30之处理液之喷出进行判定，上述复数个监视对象图像系相机70连续地对摄影区域进行拍摄所获取之图像。每当对成为新的处理对象之基板W进行处理时，获取喷出基准图像，因此，可排除作为监视对象图像及喷出基准图像双方之背景而显现之基板表面之影响，从而可确实地对处理液之喷出进行检测。