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经营范围
发明名称
积体电路结构;INTEGRATED CIRCUIT STRUCTURE
摘要
一种晶片,包含半导体基板、积体电路,其至少多个部分位于半导体基板内,以及表面介电层位于积体电路上方。多个金属垫大致均匀到处分布于晶片的表面的大致整体。这些金属垫具有多个顶表面,与表面介电层的顶表面齐平。这些金属垫包含多个活性金属垫与多个虚设金属垫。活性金属垫电性耦接积体电路。虚设金属垫电性去耦接积体电路。
申请公布号
TW201539725
申请公布日期
2015.10.16
申请号
TW103145297
申请日期
2014.12.24
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人
陈思莹 CHEN, SZUYING;杨敦年 YAUNG, DUNNIAN
分类号
H01L27/118(2006.01)
主分类号
H01L27/118(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财李世章
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 TW
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