发明名称 积体电路结构;INTEGRATED CIRCUIT STRUCTURE
摘要 一种晶片,包含半导体基板、积体电路,其至少多个部分位于半导体基板内,以及表面介电层位于积体电路上方。多个金属垫大致均匀到处分布于晶片的表面的大致整体。这些金属垫具有多个顶表面,与表面介电层的顶表面齐平。这些金属垫包含多个活性金属垫与多个虚设金属垫。活性金属垫电性耦接积体电路。虚设金属垫电性去耦接积体电路。
申请公布号 TW201539725 申请公布日期 2015.10.16
申请号 TW103145297 申请日期 2014.12.24
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 陈思莹 CHEN, SZUYING;杨敦年 YAUNG, DUNNIAN
分类号 H01L27/118(2006.01) 主分类号 H01L27/118(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财李世章
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 TW