发明名称 |
使用多重射束带电粒子束微影术于表面上形成图案之方法及系统;METHOD AND SYSTEM FOR FORMING A PATTERN ON A SURFACE USING MULTI-BEAM CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY |
摘要 |
本发明揭露一种用于分裂或遮罩资料准备的方法,其中多数单一射束带电粒子束投射被用于产生多数多重射束投射,其中为个别的单一射束投射决定多重射束曝光资讯,且多重射束曝光资讯被用于产生一组多重射束投射。此外,本发明揭露一种用于分裂或遮罩资料准备的方法,其中多数单一射束投射系藉由计算多个该单一射束投射会形成于一表面的图像,而被用于产生一组多重射束投射。 |
申请公布号 |
TW201539117 |
申请公布日期 |
2015.10.16 |
申请号 |
TW104107425 |
申请日期 |
2015.03.09 |
申请人 |
D2S公司 D2S, INC. |
发明人 |
藤村明 FUJIMURA, AKIRA |
分类号 |
G03F1/78(2012.01);G03F7/20(2006.01);H01J37/317(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/78(2012.01) |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群陈文郎 |
主权项 |
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地址 |
美国 US |