具有导电性及非磁性冷喷敷层之电浆处理设备的元件;COMPONENT OF A PLASMA PROCESSING APPARATUS INCLUDING AN ELECTRICALLY CONDUCTIVE AND NONMAGNETIC COLD SPRAYED COATING

摘要

一种用于处理半导体元件的半导体电浆处理设备，包括电浆处理腔室、流体相通于电浆处理腔室以用于将程序气体供入电浆处理腔室的程序气体源、用以供给程序气体能量以使其在电浆处理腔室中转变为电浆态的RF能量源、以及用以自电浆处理腔室排放程序气体的真空埠。半导体电浆处理设备更包括至少一元件，其中该元件具有约70000或更高之相对导磁率的主体以及该主体表面上的导电性及非磁性冷喷敷层，其中该敷层具有大于在电浆处理期间设为在此流经之RF电流肤深的厚度。