发明名称 METHOD FOR ADJUSTING EXPOSURE APPARATUS EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 <p>조정 방법은, 기판 (P) 을 유지하는 홀더부 (2H) 와, 홀더부 (2H) 에 의해 기판 (P) 을 유지하기 전에 기판 (P) 을 유지하는 홀더부 (8H) 를 갖고, 홀더부 (2H) 에 유지된 기판 (P) 을 액체 (LQ) 를 통해 노광하는 액침 노광 장치 (EX) 를 조정한다. 조정 방법은, 홀더부 (2H) 에 의해 온도계 (30) 를 유지하는 것과, 홀더부 (8H) 에 의해 온도계 (30) 를 유지하는 것과, 홀더부 (2H) 에 유지된 온도계 (30) 의 검출 결과와 홀더부 (8H) 에 유지된 온도계 (30) 의 검출 결과에 기초하여, 홀더부 (2H) 및 홀더부 (8H) 중 적어도 일방의 온도를 조정하는 것을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101560007(B1) 申请公布日期 2015.10.15
申请号 KR20097025305 申请日期 2008.07.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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