| 摘要 |
본 발명은 마스크 및 마스크의 형성의 형성 방법을 제공한다. 이 방법은 타겟 패턴을 설정하는 단계, 타켓 패턴에 의해 형성된 사이드 로브의 발생을 확인하는 단계, 타겟 패턴 및 사이드 로브가 발생한 영역에 예비 타켓 패턴 및 예비 사이드 로브 패턴을 설정하는 단계, 예비 타켓 패턴 및 예비 사이드 로브 패턴을 이용하여 간섭 패턴 맵(map)을 생성하는 단계, 간섭 패턴 맵에서 상기 예비 타켓 패턴의 위치의 위상과 같은 위상 또는 반대 위상을 가지는 영역들 중의 적어도 하나를 간섭 보조 패턴들로 설정하는 단계, 및 간섭 보조 패턴들 및 타겟 패턴들을 이용하여 마스크를 형성하는 단계를 포함한다. |
