| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Herstellen eines Substrats derart, dass dieses eine zwischen einer ersten Schicht (110, 210) mit einer ersten Schichtdicke und einer zweiten Schicht (130, 230) mit einer zweiten Schichtdicke angeordnete vergrabene Schicht (120, 220) aufweist, und Ausbilden eines Reflexionsschichtsystems (190, 290) auf dem Substrat, wobei beim Herstellen des Substrats die erste Schichtdicke und die zweite Schichtdicke zur Erzeugung einer gewünschten endlichen Krümmung des Substrats voneinander verschieden eingestellt werden. |
