激光退火装置和激光退火方法

摘要

本发明涉及一种激光退火装置和激光退火方法。该退火装置包括用于承载透明基板的载台，在透明基板上设置有非晶硅层，在载台内设置有控制非晶硅层的温度的温控构件，激光器，其能提供透射透明基板而照射到温控构件上的激光。温控构件在激光的照射下将非晶硅层划分成多个区域，并且多个区域中相邻的区域之间的温度彼此不同。通过使用这种激光退火装置，在将非晶硅熔融再结晶时，能够控制再结晶的方向。这样可以使所形成的多晶硅层的晶粒较大、晶界较少，多晶硅半导体层的电子迁移率也因此而提高。

主权项

一种激光退火装置，包括：用于承载透明基板的载台，在所述透明基板上设置有非晶硅层，在所述载台内设置有控制所述非晶硅层的温度的温控构件，激光器，其能提供透射所述透明基板而照射到所述温控构件上的激光，其中，所述温控构件在所述激光的照射下将所述非晶硅层划分成多个区域，并且所述多个区域中相邻的区域之间的温度彼此不同。