发明名称 成膜装置及成膜方法
摘要
申请公布号 TWI503433 申请公布日期 2015.10.11
申请号 TW102136350 申请日期 2013.10.08
申请人 不二越股份有限公司 发明人 林澈文;高井健志
分类号 C23C14/32;C23C14/56 主分类号 C23C14/32
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种成膜装置,系具备有真空腔、和具有从前述真空腔之底部而供给蒸镀材料之支持杆之炉床、和产生电浆使前述蒸镀材料昇华之枪、以及对于前述枪供给电力之电源,该成膜装置,其特征为:在前述炉床之内部,系设置有磁石,前述炉床和前述支持杆系被作电性连接,前述炉床以及前述支持杆系一同被与前述电源作连接。
地址 日本