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经营范围
发明名称
近红外光屏蔽膜及近红外光屏蔽膜之制造方法
摘要
申请公布号
TWI503346
申请公布日期
2015.10.11
申请号
TW103120233
申请日期
2014.06.11
申请人
亿高应用材料有限公司
发明人
杨修生;赖明德
分类号
C08G63/183;C08K3/22
主分类号
C08G63/183
代理机构
代理人
黄耀霆 高雄市苓雅区中正一路284号12楼
主权项
一种近红外光屏蔽膜,系包含:一聚对苯二甲酸乙二醇酯膜,系包含聚对苯二甲酸乙二醇酯;及数个含钨氧化物奈米粒子,该数个含钨氧化物奈米粒子系散布并固定于该聚对苯二甲酸乙二醇酯膜;其中,该近红外光屏蔽膜系包含以重量百分比计为80~99.99%之聚对苯二甲酸乙二醇酯,及0.01~20%之含钨氧化物奈米粒子,该含钨氧化物为重量为0.01~10克散布并固定于每平方公尺之该聚对苯二甲酸乙二醇酯膜中。
地址
桃园市中坜区环北路71之1号3楼
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