| 主权项 |
一种真空处理装置，系包含有：一真空室，系具有一真空处理空间用以透过形成电浆对一矩形之基板执行真空处理，该真空室安装有一基板支撑单元，该基板支撑单元用以支撑该基板；一气体供给单元，系安装于该真空室之一顶部中，用以将气体供给至该真空处理空间中；一排气口，系安装于该真空室，以便与一对该真空处理空间进行压力控制及排气的排气系统相连接；一能量供给单元，系安装于该真空室，用以供给能量以便将该气体供给单元之气体供给之电浆；以及一覆盖件，系可拆分地与该真空室之一内表面之至少一部份紧密地相耦合；其中，所述覆盖件至少具有铝、铝合金及不绣钢中的任一种材质，并且在其向所述处理空间露出，并与所述电浆直接接触的露出表面中的至少一部分上，形成了包含有钨(W)、镍(Ni)、氮化钨(W-N)、铬(Cr)及钼(Mo)中的任意一个的涂覆层。
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