Spiegelanordnung, Projektionsobjektiv und EUV-Lithographieanlage

摘要

Die Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung (1), umfassend: einen Spiegel (2) mit einem Substrat (3) und mit einer für EUV-Strahlung (9) reflektiven Beschichtung (4), wobei das Substrat (3) aus einem Material mit einem temperaturabhängigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten gebildet ist, der in einem ersten Volumenbereich (V1) bei einer ersten Nulldurchgangs-Temperatur (TZC1) einen Nulldurchgang aufweist und der in mindestens einem zweiten, thermisch aktuierbaren oberflächennahen Volumenbereich (V2) bei einer zweiten, von der ersten verschiedenen Nulldurchgangs-Temperatur (TZC2) einen Nulldurchgang aufweist, sowie mindestens einen thermischen Aktuator (6) zur thermischen Aktuation des zweiten Volumenbereichs (V2) des Substrats (3).