| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein erfindungsgemäßes Verfahren folgende Schritte auf: Aufnehmen eines ersten Teil-Interferogramms zwischen einer an einem ersten Spiegelsegment (101) reflektierten Welle und einer an einer Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Aufnehmen eines zweiten Teil-Interferogramms zwischen einer an einem zweiten Spiegelsegment (102) reflektierten Welle und einer an der Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Ermitteln eines Phasenversatzes zwischen dem ersten Teil-Interferogramm und dem zweiten Teil-Interferogramm, und Justieren des ersten Spiegelsegments (101) und des zweiten Spiegelsegments (102) zueinander auf Basis des ermittelten Phasenversatzes. |
