| 发明名称 | 高分子化合物溶液中的杂质去除方法 | ||
| 摘要 | 本发明是通过将两个以上的膜组件串联地配置的交叉流动方式的膜过滤，而自含有高分子化合物的溶液去除低分子杂质的方法，所述方法满足下述(A)～(C)：(A)溶液中的高分子化合物具有单峰值的分子量分布；(B)过滤膜的截留分子量MWCO与高分子化合物的数量平均分子量Mn及重量平均分子量Mw满足下述(I)：Mw×(Mw/Mn)<sup>-3</sup>＜MWCO＜Mw×(Mw/Mn)<sup>-1</sup>...(I)；(C)将膜过滤中各膜组件间的过滤压的变动系数设为10％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN104968419A | 申请公布日期 | 2015.10.07 |
| 申请号 | CN201480006524.X | 申请日期 | 2014.03.25 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 松本秀树;永田美彰;永井洋一 |
| 分类号 | B01D61/58(2006.01)I;B01D71/02(2006.01)I;C08J3/00(2006.01)I | 主分类号 | B01D61/58(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 陶敏;臧建明 |
| 主权项 | 一种方法，是通过将两个以上的膜组件串联地配置的交叉流动方式的膜过滤，而自含有高分子化合物的溶液去除低分子杂质的方法，且满足下述(A)～(C)：(A)溶液中的高分子化合物具有单峰值的分子量分布；(B)过滤膜的截留分子量MWCO、与高分子化合物的数量平均分子量Mn及重量平均分子量Mw满足下述(I)，Mw×(Mw/Mn)<sup>‑3</sup>＜MWCO＜Mw×(Mw/Mn)<sup>‑1</sup>... (I)；(C)将膜过滤中各膜组件间的过滤压的变动系数设为10％以下。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布2丁目26番30号 | ||