发明名称 |
形成在具有基板顶面之半导体基板上之半导体元件及其制备方法 |
摘要 |
|
申请公布号 |
TWI502742 |
申请公布日期 |
2015.10.01 |
申请号 |
TW101102713 |
申请日期 |
2012.01.20 |
申请人 |
万国半导体股份有限公司 |
发明人 |
陈 军 |
分类号 |
H01L29/78;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
|
代理人 |
李国光 新北市中和区中正路928号5楼;张仲谦 新北市中和区中正路928号5楼 |
主权项 |
一种形成在具有基板顶面之半导体基板上之半导体元件,其包含;一从该基板顶面延伸到该半导体基板中之栅极沟槽;一在该栅极沟槽中之栅极电极;一沉积在该栅极电极上方之栅极顶部电介质材料;一在该栅极沟槽附近之本体区;一嵌在该本体区中之源极区,至少一部分之该源极区延伸到该栅极顶部电介质材料上方;以及一沉积在至少一部分之该栅极沟槽开口、至少一部分之该源极区上方之金属层;其中该源极区包含一弯曲侧壁部分,其相邻于该栅极沟槽,并且延伸至该栅极顶部电介质材料的上方。 |
地址 |
美国 |