发明名称 形成在具有基板顶面之半导体基板上之半导体元件及其制备方法
摘要
申请公布号 TWI502742 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW101102713 申请日期 2012.01.20
申请人 万国半导体股份有限公司 发明人 陈 军
分类号 H01L29/78;H01L21/28 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 李国光 新北市中和区中正路928号5楼;张仲谦 新北市中和区中正路928号5楼
主权项 一种形成在具有基板顶面之半导体基板上之半导体元件,其包含;一从该基板顶面延伸到该半导体基板中之栅极沟槽;一在该栅极沟槽中之栅极电极;一沉积在该栅极电极上方之栅极顶部电介质材料;一在该栅极沟槽附近之本体区;一嵌在该本体区中之源极区,至少一部分之该源极区延伸到该栅极顶部电介质材料上方;以及一沉积在至少一部分之该栅极沟槽开口、至少一部分之该源极区上方之金属层;其中该源极区包含一弯曲侧壁部分,其相邻于该栅极沟槽,并且延伸至该栅极顶部电介质材料的上方。
地址 美国
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