| 摘要 |
본 발명은 반도체 디바이스에 대한 처리를 적정하게 선택하기 위한 평가 결과를 구하는 것이 가능한 패턴 측정 장치 및 반도체 계측 시스템의 제공을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에서는, 전자 디바이스의 회로 패턴과 기준 패턴의 비교를 행하는 연산 장치를 구비한 패턴 측정 장치이며, 해당 연산 장치는, 상기 회로 패턴과 기준 패턴 사이의 계측 결과와, 적어도 2개의 임계값의 비교에 기초하여, 해당 회로 패턴을 회로 패턴의 처리 단위로 분류하는 패턴 측정 장치를 제안한다. |
